量子点显示产业链面临哪些技术难点？

量子点是准零维的纳米材料，由少量的原子所构成。粗略地说，量子点三个维度的尺寸都在100纳米(nm)以下，外观恰似一极小的点状物，其内部电子在各方向上的运动都受到局限，所以量子限域效应特别显著。

量子点显示产业链概述

 

量子点显示产业链从上游到下游依次为上游量子点材料和阻隔膜、中游量子点膜和下游量子点电视：

• 量子点材料和阻隔膜供应商：负责量子点材料和阻隔膜的设计和生产，代表性公司Nanosys和3M；

• 量子点膜公司：完成量子点光学膜的涂布和复合工艺，代表性公司3M、激智科技；

• 终端电视厂（代工厂）：负责量子点电视的设计、生产和销售，代表性公司三星、TCL和海信。

原材料合成制备是核心难点

量子点膜的优点显而易见，但由于技术限制，国内许多显示器制造商只能通过进口获取。量子点因其容易受热量和水分影响的缺点，无法实现蒸镀方式，只能研发喷墨印刷涂布工艺实现。

所以，受限于当前材料和技术，因此量子点光学膜量产的技术难点在于原材料的合成，即纳米材料的合成与获取，是整个量子点显示产业链技术难度最高的一个环节，目前全球仅有英国Nanoco、德国Nanosys、美国QD Vision（被三星收购）和杭州纳晶科技四家公司有核心专利，所以其也是价值量最大的一个环节。

目前量子点合成法主要有三种：水溶液合成法、有机溶剂合成法和电场约束法。

量子点合成法

每家公司量子合成法有不同的技术特点，但已有的经典量子点材料的核心专利基本上被国外这3大公司垄断，其他公司除了考虑材料特性，很多时候为了申请专利和避开专利，不得不针对某个细节做一些修正，所以专利已经成为该领域的核心壁垒。

量子点材料由于其特殊的性能对水汽和氧气的敏感性，从而不得不采用高阻隔薄膜进行结构性封装，而且其阻隔性需要满足Aquatran分析装置的要求，在尺寸、光学特性和弯曲特性上也有一定的要求，所以在制备高阻隔膜上也有较高的技术难度。

完整阻隔膜的间歇制造工艺流程图

其生产难点主要在基膜和镀膜工艺中的磁控溅射工艺上，首先基材必须具备表面平坦度，光学特性，可承受镀膜的耐性，一般情况下使用表面附带功能涂布层的PET基材；磁控溅射工艺，是先将所需原料做成磁控溅射靶材，再从磁控溅射靶上面生成所需的膜物质，工艺步骤非常复杂。

所以现在很多公司采用另一种等离子CVD的镀膜方法，它可以从原料直接生成膜物质从而使镀膜原料价格更低，同时在生产量同等的装置情况下，单一镀膜源的镀膜速度更快（约5倍），使得设备运营成本更低。